因产量小和本钱高等问题 ，目前资本市场上大热的石墨烯 ，仍难以大宗进入实际应用中 。不过 ，如今中国科学家通过对生产要领的调解和革新 ，使单晶石墨烯薄膜的生产速度提高了150倍 ，该研究为石墨烯的大规模应用涤讪了基础 。
上述技术突破来自北京大学、武汉大学、南方科技大学和香港理工大学的研究团队 。该团队的研究论文已于8月份在国际权威杂志《自然》的子刊《自然˙纳米技术》上在线宣布 。
石墨烯（Graphene）是由碳原子组成的只有一层原子厚度的二维晶体 ，被认为是目前世界上上最薄却也是最坚硬的纳米质料 ，也是目前世上电阻率最小质料 。正因具有这些优异性能 ，可替代古板质料 ，并能促成众多技术革命 ，石墨烯被认为具有不可估量的应用前景 。
在紫外光臭氧真空型设备前的含有石墨烯的柔性质料和石墨烯粉末 。
石墨烯主要有石墨烯薄膜和石墨烯粉体两种 ，石墨烯粉末主要是掺杂在其他质料中 ，起到改性的作用 ，主要应用于新质料领域和能源领域 ，好比防腐涂料、散热涂料、锂离子电池等 。相较于石墨烯粉体 ，石墨烯薄膜主要用于电子触控以及电子衣着设备等方面 。
目前制备高质量石墨烯薄膜的要领 ，除了胶带剥离法、碳化硅或金属外貌外延生长法外 ，主要是化学气相沉积法（ChemicalVaporDeposition ，CVD） �；喑粱且恢种票钢柿系钠嗌ひ� ，是把一种或几种含有组成薄膜元素的单只、化合物的气体通入安排有基材的反应室中 ，借助空间气相化学反应在基体外貌上沉积固态薄膜的工艺技术 。
通常石墨烯通过CVD技术来制备时 ，一般会选用甲烷等含碳化合物为前驱体 ，使其在金属等基体（一般为铜箔）外貌爆发高温剖析生成热解碳 ，通过控制制备反应条件 ，热解碳重新生长形成石墨烯 。CVD技术可满足规�；票父咧柿俊⒋竺婊┑囊� ，可是需要泯灭很长的时间 。据科技日报报道 ，制备一块面积为1厘米巨细的单晶石墨烯薄膜至少需要一天的时间 ，十分缓慢 。
上述科研团队的研究 ，就是在石墨烯薄膜生成速度上获得了两个数量级倍数的突破 。该研究团队称 ，能将这一历程从每秒0.4微米加速到每秒60微米 ，速度提升150倍 。而其中的诀窍 ，就是在加入反应的铜箔上直接加入了少许氧气 。
研究人员在与铜基板相距15微米的地方 ，安顿了一个SiO2/Si（SiO2厚度为5纳米)基板 ，SiO2在凌驾800℃时可以缓慢释放氧气 ，通过为加入反应的铜基板连续提供氧 ，降低碳源的剖析能量势垒 ，将制备速率提升了150倍 ，石墨烯生成速度可以抵达60微米/秒 ，5秒内可以乐成生长尺寸巨细为0.3毫米的石墨烯晶粒 。
研究人员称 ，对石墨烯工业而言 ，该研究意义重大 。通过该技术石墨烯的生产将能接纳效率更高的卷对卷制程 。而产量的增加和本钱的下降 ，会进一步扩大石墨烯的使用规模 ，刺激其需求量的增长 。
目前各国都在积极对石墨烯展开科学研究 ，以石墨烯为代表的新质料已纳入中国“十三五”国家战略性新兴工业生长计划和“十三五”国家科技立异计划中 ，欧盟委员会将石墨烯列为仅有的两个“未来新兴技术旗舰项目”之一 。（文章来源：中国能源网）
